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1、ZEISS卡爾·蔡司顯微鏡_德***進(jìn)口掃描電子顯微鏡_場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SigmaSEM

Sigma 300 性價(jià)比高。Sigma 500 裝配有***流的背散射幾何探測(cè)器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。SigmaSEM將高***的分析性能與場(chǎng)發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件,多種探測(cè)器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像是用于高品質(zhì)成像與高***分析的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡.

2、ZEISS卡爾·蔡司顯微鏡_德***進(jìn)口掃描電鏡_場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡GeminiSEM

GeminiSEM 系列產(chǎn)品成像方便：即使在變換的壓力模式下，亦能獲得亞納米分辨率和高檢測(cè)效率。GeminiSEM 500 將新的電子光學(xué)設(shè)計(jì)與 Gemini 技術(shù)相結(jié)合，特別在低電壓模式下也能獲得較好的分辨率。在500V 電壓下能夠獲取1.2納米，在1KV下能夠獲取1.1納米的分辨率?；蛘卟捎每蛇x配的樣品臺(tái)減速模式，在1KV下能獲取0.9 nm的分辨率。GeminiSEM 300具有出色的成像質(zhì)量和極快的成像速度，是您大視野成像的合適之選。受益于Gemini鏡筒可進(jìn)行高效的信號(hào)探測(cè)，超高分辨力、無變形的大面積成像

3、ZEISS卡爾·蔡司電子顯微鏡_德***進(jìn)口掃描電子顯微鏡_SEM掃描電鏡Multi

MultiSEM 505/506掃描電子顯微鏡（SEM）專為 7 x 24 小時(shí)的連續(xù)、可靠運(yùn)行而設(shè)計(jì)。只需簡(jiǎn)單設(shè)置高性能數(shù)據(jù)采集流程，MultiSEM 便能夠獨(dú)立地自動(dòng)完成高襯度圖像采集。MultiSEM配備有***個(gè)可容納 10 cm x 10 cm 大小樣品的樣品夾,91 條電子束同時(shí)工作，擁有出色的成像速度,在3小時(shí)內(nèi)對(duì)1 cm2的區(qū)域成像，分辨率高達(dá)4nm。

4、ZEISS德***卡爾·蔡司顯微鏡_進(jìn)口掃描電子顯微鏡_材料分析掃描電鏡MERLIN

只需使用***系列特定應(yīng)用選件，MERLIN蔡司掃描電鏡便能獲取納米材料、半導(dǎo)體樣品、礦物、鋼鐵或合金的更豐富信息：

與 SEM/AFM（原子力顯微鏡）結(jié)合，可獲取半導(dǎo)體和納米材料的原子***信息

使用 ATLAS 大面積成像模塊拼接大尺寸樣品區(qū)域，用于半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)驗(yàn)證

觀測(cè)諸如礦物、陶瓷、玻璃和聚合物等非導(dǎo)電樣品，利用局部可變壓力帶來的電荷中和作用進(jìn)行探測(cè)分析

借助實(shí)時(shí) 3DSM 成像模塊輕松掌握 MEMS 器件的形貌和表面粗糙度、納米結(jié)構(gòu)、硬度測(cè)量產(chǎn)生的壓痕或法醫(yī)調(diào)查中的劃痕

GEMINI 鏡筒可用于磁性樣品檢測(cè)，圖像絕不失真。

通過增加 3View 超薄切片機(jī)實(shí)現(xiàn)大體積軟組織三維重構(gòu)。

利用局部可變壓力模式帶來的電荷中和作用對(duì)絕緣纖維成像。

5、ZEISS卡爾·蔡司顯微鏡_德***進(jìn)口掃描電子顯微鏡_材料分析掃描電鏡EVO18

EVO 18掃描電鏡是學(xué)術(shù)和研究機(jī)構(gòu)使用的***款分析型掃描電子顯微鏡。五象限背散射電子探測(cè)器（BSE）有助于增強(qiáng)低電壓性能及提供更豐富的形態(tài)信息。對(duì)于非導(dǎo)電樣品，電子束襯管技術(shù)可有效提高分辨率。EVO 18 Research 為您提供卓越的成像品質(zhì)，具有處理多種材料的能力。結(jié)合SmartSEM 軟件的易用性，使其成為多種研究應(yīng)用的合適之選，范圍涵蓋半導(dǎo)體和電子技術(shù)、地質(zhì)科學(xué)及材料研究。

6、ZEISS卡爾·蔡司掃描電子顯微鏡_德***進(jìn)口掃描電鏡_材料分析掃描電鏡EVO

觸摸式EVO MA是適用于多用戶操作環(huán)境下的交互式掃描電子顯微鏡.EVO MA 擁有三種尺寸的樣品室及多種可選探測(cè)器和軟件:EVO MA 10是用于分析多種材料樣品的掃描電鏡,EVO MA 15 是適用于多種重量和尺寸樣品的掃描電鏡,EVO MA 25是適用于大尺寸和大重量樣品分析的掃描電鏡。升***后的 EVO MA 可以進(jìn)行全環(huán)境掃描電鏡操作（EVO LS）。利用EVO MA的靈活度和分析成像，可將其廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域：

金屬與鋼材:

對(duì)金屬，骨骼以及非金屬進(jìn)行成像并分析它們的內(nèi)部結(jié)構(gòu)

對(duì)精煉鋼與高***合金進(jìn)行成分分析及晶體結(jié)構(gòu)分析

共面的能譜儀及背散射電子探測(cè)器幾何設(shè)計(jì)能夠?yàn)槲覀兂尸F(xiàn)晶界，晶相鑒別，應(yīng)變分析及滑移系活動(dòng)的特性與顯微結(jié)構(gòu)

材料研究:

檢測(cè)和開發(fā)材料

分析材料性能，如耐蝕性、耐熱性及涂鍍性能

使用配有電子束減速技術(shù)的高分辨背散射電子探測(cè)器與共面能譜儀及背散射電子探測(cè)器對(duì)材料進(jìn)行全面深入的分析 

半導(dǎo)體產(chǎn)品與電子產(chǎn)品:

對(duì)印刷電路板及板***部件進(jìn)行常規(guī)檢查

進(jìn)行電子束感生電流實(shí)驗(yàn)來判定組件性能

對(duì)樣本的腐蝕，裂縫及污染進(jìn)行可視化分析與成分分析

航天航空與汽車制造:

大型樣品室及靈活耐用的載物臺(tái)能夠很好地對(duì)大型重型汽車零部件進(jìn)行處理

在變壓模式下對(duì)高***復(fù)合材料，鍍膜及織物進(jìn)行分析

對(duì)粒子及發(fā)動(dòng)機(jī)磨損顆粒進(jìn)行高性能成分分析

自然資源:

地質(zhì)樣本的形態(tài)，礦物及成分分析

在變壓模式下，使用***聯(lián)電流探測(cè)器與高分辨背散射電子探測(cè)器對(duì)重要樣本進(jìn)行成像，獲取全面詳細(xì)的結(jié)構(gòu)及成分信息。

對(duì)清晰無痕的碳酸鹽地質(zhì)樣本進(jìn)行陰極熒光成像

ZEISS卡爾·蔡司顯微鏡_德國(guó)進(jìn)口掃描電子顯微鏡產(chǎn)品參數(shù)示例——亞納米級(jí)分析能力MERLIN掃描電鏡參數(shù):

分辨率

高達(dá) 0.6nm（STEM 模式）

探針電流

高達(dá) 300nA

加速電壓

20V 至 30 kV  

探測(cè)模式（可選）

In-lens（SE）

正光軸 in-lens 二次電子探測(cè)

In-lens（EsB）

用于材料襯度成像的正光軸in-lens 能量選擇背散射探測(cè)；in-lens SE 和 EsB 并行成像

角度選擇背散射探測(cè)器（AsB）

用于晶體表面的結(jié)構(gòu)分析。

3DSM用于實(shí)時(shí)三維表面形貌成像。

STEM低電壓優(yōu)化明場(chǎng)、4 象限暗場(chǎng)和大角度暗場(chǎng)透射成像。

選件（可選） 

ATLAS 大面積成像用于大尺寸樣品區(qū)域拼接。

原子力顯微鏡（AFM）技術(shù)擴(kuò)展掃描電鏡性能，使其具有解析單原子層和檢測(cè)表面磁性或局部導(dǎo)電率的能力。

局部電荷中和可以實(shí)現(xiàn)非導(dǎo)電樣品成像。

3View原位超薄切片機(jī)可實(shí)現(xiàn)大體積軟組織三維重構(gòu)。

Carl Zeiss Microscopy GmbH是蔡司集團(tuán)的顯微鏡業(yè)務(wù)部。公司始于***間精密機(jī)械和光學(xué)儀器車間，由卡爾·蔡司先生于 1846 年創(chuàng)建。創(chuàng)立初期公司主要制作簡(jiǎn)單精密型單鏡筒光學(xué)顯微鏡，隨后逐步開始生產(chǎn)諸如復(fù)合顯微鏡的更為復(fù)雜的產(chǎn)品。Ernst Abbe、Otto Schot 和 August K?hler 的研究成果對(duì)這***進(jìn)步居功至偉。

第二次世界大戰(zhàn)和之后的德***分裂對(duì)二十世紀(jì)顯微鏡的研制及生產(chǎn)產(chǎn)生了重大的沖擊。1947 年, 位于耶拿的*大子公司被拆除，此后不久又在奧伯科亨重建。自此兩***蔡司公司被“鐵幕”分隔開來，獨(dú)立經(jīng)營(yíng)，直至 1991 年才重新合并。2006 年，生產(chǎn)光學(xué)顯微鏡的各部門正式合并組建了 Carl Zeiss MicroImaging GmbH 公司，隨后又于 2011 年與電子顯微鏡分部成功合并，遂成立了***的 Carl Zeiss Microscopy GmbH 公司，總部設(shè)在公司誕生地德***耶拿。除耶拿外，哥廷根（G?ttingen）和慕尼黑（Munich）分部也為生物學(xué)研究、公共衛(wèi)生健康及工業(yè)領(lǐng)域提供***解決方案。公司產(chǎn)品包括光學(xué)顯微鏡、激光共聚焦掃描顯微系統(tǒng)、全系列電子顯微鏡和離子束顯微鏡，以及為圖像處理和圖像記錄量身定制的軟件解決方案。此外，我們還分別在奧伯科亨（Oberkochen）、皮博迪（Peabody）和劍橋（Cambridge）研制電子顯微鏡，所有這些儀器讓 Carl Zeiss Microscopy GmbH成為了全球顯微鏡系統(tǒng)的***制造商。

ZEISS卡爾·蔡司顯微鏡_德***進(jìn)口掃描電子顯微鏡:場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SigmaSEM場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡GeminiSEMSEM掃描電鏡Multi材料分析掃描電鏡MERLIN材料分析掃描電鏡EVO18材料分析掃描電鏡EVO