聚焦型掃描X-射線熒光能譜儀(XRF)(Orbis Micro-EDXRF Elemental Analyzer)
價 格:詢價
產 地:美國更新時間:2020-10-15 17:57
品 牌:EDAX型 號:Orbis
狀 態(tài):正常點擊量:1405
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整機外觀和硬件都進行重新設計,使定位更加準確,在探測器上加入了***新的SDD檢測器,和***新的Poly capilary毛細管聚焦,比以往的強度提高數(shù)十倍,采用了新的激光聚焦彌補了以往光學聚焦對表面光滑樣品聚焦慢的問題,以及增大了樣品倉的使用空間.
技術參數(shù)
1.微聚焦X光管***大功率50kV,50W, 1.0mA
2.試樣上X光聚焦點直徑300um、100um、30um、20um及連續(xù)可變
3.自動發(fā)射束濾波系統(tǒng)(包括全開、關閉和6個濾片,共8個位置)
4.10x及100x(300x)彩色CCD攝像頭
5.樣品室尺寸標準型:直徑360mm,高310mm(大樣品室型為700x700x700mm)
6.自動樣品臺行程100x100x100mm(大樣品室型為300x300x100mm)
7. 標準精度計算機控制的XYZ樣品臺
8.樣品臺載重量: 5Kg,10Kg(大樣品室)
9.可以在真空下或大氣壓下進行檢測
10.可以進行單點或給定多點的自動分析
11.可以進行單視域或多視域組合的元素分布分析(面掃描與線掃描)
12.可以進行超越單視域的元素分布分析(在組合視域中選擇單幅元素分布分析范圍)
選購件:
Mo靶的X-光管(50kV,50W)
替代300 μm單***毛細管的100 μm單***毛細管
與單***毛細管光學相關聯(lián)的自動準直器(1 mm和2 mm);由軟件控制選擇。
Apollo 40 mm2 硅漂移檢測器
軟件:譜分布圖,圖像處理軟件,線掃描,涂鍍層分析,譜匹配,合金分析以及用于數(shù)據(jù)處理的離線式譜儀軟件。
主要特點
1.樣品范圍寬:液體,磁性,絕緣體,少量粉末等。
2.樣品尺寸大:塊狀樣品可達270x270x100mm(大樣品室型則更大)。
3.焦點小,可進行點、線、面的分布分析。
4.能量利用率高,X光管功率小,維護簡便。
5.無損檢測,使用方便,自動化程度高。
6.工作距離長。便于進行非平坦樣品的分析。
7.可應用于材料研究、生物醫(yī)學、司法鑒定、文物保護與鑒定、環(huán)境保護等多領域。
8.豐富的軟件不僅滿足定性、定量和元素分布分析,還可以進行涂鍍層厚度、合金分析、檢索與分類分析以及RoHS、WEEE的檢測等。
儀器介紹
新***代Orbis聚焦型掃描X-射線熒光能譜儀也稱熒光探針,采用聚焦X射線照射,光路系統(tǒng)采用正置式,可在大氣壓力或低真空環(huán)境下檢測樣品。該儀器可進行視頻圖象采集和圖象拼接,微區(qū)及整體成分的定性定量分析,以及線、面元素的分布分析,檢測極限為ppm***。