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Nano-ind 納米壓痕測(cè)試儀

價(jià)  格:詢價(jià)

產(chǎn)  地:美國(guó)更新時(shí)間:2020-10-26 15:19

品  牌:Nanovea型  號(hào):Nano-ind

狀  態(tài):正常點(diǎn)擊量:1173

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MEMS、半導(dǎo)體、光學(xué)部件、醫(yī)學(xué)工程、觸摸屏及涂層、汽車(chē)行業(yè)、新材料研發(fā)、建筑裝潢涂層
 
技術(shù)參數(shù):載荷范圍400mN (800mN, 1600mN可選)載荷分辨率0.03μN(yùn)深度范圍250μm 深度分辨率0.003nm 熱飄逸<0.05nm/s ***大摩擦力 400mN Sinus模式分析(DMA)20Hz
 
其他信息:主要用于納米尺度薄膜材料的硬度與楊氏模量測(cè)試,測(cè)試結(jié)果通過(guò)壓入載荷大小與壓入深度的曲線計(jì)算得出,無(wú)需通過(guò)顯微鏡觀察壓痕面積。 產(chǎn)品特點(diǎn): 光學(xué)顯微鏡自動(dòng)觀察獨(dú)特的熱漂移控制技術(shù)可測(cè)量硬度、楊氏模量、壓入深度-載荷的曲線圖、彈塑性、蠕變性能等力學(xué)參數(shù)適時(shí)測(cè)量載荷大小采用獨(dú)立的載荷加載系統(tǒng)與高分辨率的電容深度傳感器快速的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)的載荷反饋系統(tǒng)雙標(biāo)準(zhǔn)校正:熔融石英與藍(lán)寶石也可以進(jìn)行劃痕測(cè)試納米壓痕測(cè)試模塊可以與緊湊型工作臺(tái)或者標(biāo)準(zhǔn)型工作臺(tái)配用:符合ISO14577、ASTM E2546


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