JC502-H3000氫分析儀 金屬中氫含量測(cè)定儀
儀器參數(shù)
1.檢測(cè)原理:惰氣保護(hù)-脈沖加熱熔融-熱導(dǎo)法。
2.相關(guān)標(biāo)準(zhǔn):GB/T 223.82-2007
3.分析范圍:氫: 低氫:0 - 0.005%* 高氫: – 0.1%*
注:* 為1g樣品,改變稱樣量可擴(kuò)大測(cè)量范圍。
4.分析精度:標(biāo)準(zhǔn)氣體:0.025ppm (0~1ppm) 標(biāo)準(zhǔn)試樣:0.2ppm * 或 2% *
注:* 以不大于試樣標(biāo)準(zhǔn)偏差或不確定度為準(zhǔn)。
5.靈 敏 度:0.001ppm
6.分析時(shí)間:一般為3分鐘
7.樣品稱重:一般為1g,可根據(jù)樣品含量改變稱樣量。
8.載 氣:高純氮?dú)猓?nbsp; 動(dòng) 力 氣:普通氮?dú)饣驂嚎s空氣。
9.儀器結(jié)構(gòu):模塊式結(jié)構(gòu),由主機(jī)、計(jì)算機(jī)、打印機(jī)*、電子天平*、冷卻循環(huán)水*等模塊組成。注:* 為選配件。
10.檢測(cè)系統(tǒng):氫分析儀采用高精度熱導(dǎo)檢測(cè)系統(tǒng)。 a) 檢測(cè)器:采用抗氧化NTC熱敏電阻元件; b) 信號(hào)處理:采用小電流控制技術(shù),防止熱敏元件在不通載氣條件下氧化; c) 恒溫控制:采用高精度恒溫控制系統(tǒng); d) 參比氣路:采用穩(wěn)定性良好的微流量控制;
11.流量控制:采用高精度電子流量控制技術(shù);
12.氧化銅爐催化:分析氣進(jìn)入檢測(cè)系統(tǒng)前,經(jīng)過氧化銅爐催化,將分析氣中雜質(zhì)轉(zhuǎn)化吸收,保證分析準(zhǔn)確;
13.熔融加熱爐:電流0-1500A,功率:8KVA, 溫度高于3000℃。
14.校正:兩種方法 1)快速校正 2)多次分析結(jié)果校正
15.電源 220VAC ?10%, 50/60Hz, 電流50A(功率10KW)
16.軟件功能 新的Win7環(huán)境下的軟件,其功能強(qiáng)大,操作方便,使用靈活,界面友好。
其他參數(shù) 參數(shù)設(shè)置: 可根據(jù)具體樣品對(duì)脫氣時(shí)間/功率、沖洗時(shí)間/功率,分析時(shí)間/功率、助熔劑空白等分析參數(shù)進(jìn)行靈活調(diào)整; 對(duì)不同種類樣品可以分別建立相應(yīng)的校準(zhǔn)方法及參數(shù),并存儲(chǔ)到數(shù)據(jù)庫,分析方法數(shù)量不受限制;自檢功能 冷卻循環(huán)水的溫度在線實(shí)時(shí)檢測(cè)并報(bào)警; 電壓、電流反饋在線實(shí)時(shí)檢測(cè); 凈化爐溫在線實(shí)時(shí)檢測(cè)并報(bào)警; 氣路各電磁閥動(dòng)作檢測(cè); 熱導(dǎo)信號(hào)檢測(cè)與調(diào)整; 脈沖爐工作狀態(tài)檢測(cè);