掃描探針光刻系統(tǒng)（SPL）
價(jià) 格：詢價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-18 15:11
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Nano analytik公司成立于2010年4月，技術(shù)源自德***伊爾梅瑙科技大學(xué)，公司的核心競爭力在于傳感器、微系統(tǒng)和控制技術(shù)，公司宗旨是讓納米分析技術(shù)簡單化，在保證科研嚴(yán)謹(jǐn)性的同時(shí)提高科研效率。
Nano analytik研發(fā)了***款基于新型掃描探針的高性能光刻系統(tǒng)?？稍诖髿猸h(huán)境下，高經(jīng)濟(jì)效益、快速直寫10納米以下結(jié)構(gòu)和制備納米***器件。該系統(tǒng)的閉環(huán)回路可實(shí)現(xiàn)使用同***掃描探針對納米結(jié)構(gòu)的成像、定位、檢測和操縱。
掃描探針光刻系統(tǒng)（SPL）
技術(shù)特點(diǎn)：
場發(fā)射低能電子束
大幅降低電子束背底散射
幾乎消除電子束臨近效應(yīng)
無需調(diào)制電子束聚光
10 nm 以下光刻精度
接近原子***分辨的套刻精度
線寫速度高達(dá) 300 μm/s
產(chǎn)品規(guī)格
| 光刻模式 | 正光刻、負(fù)光刻 |
| 工作環(huán)境 | 大氣、真空 |
| *小線寬 | 5 nm （驗(yàn)收指標(biāo)） |
| 直寫速度 | 300 μm/s |
| 套刻精度 | < 7 nm |
| 拼接精度 | < 10 nm |
| 光刻區(qū)域 | 200 μm x 200 μm |
| 樣品尺寸 | 直徑：150 mm （6 英寸） |
| 占用空間 | 80 cm x 100 cm x 190 cm |
探針掃描頭配置
| 工作模式 | 頂部XYZ掃描頭 |
| 掃描范圍 | （XYZ） 10 μm × 10 μm × 5 μm 可擴(kuò)展至 200 μm × 200 μm |
| 定位精度（XYZ） | 0.01 nm；0.01 nm；0.01 nm |
| 傳感器 | 壓阻閉環(huán)傳感 |
| 輸入/輸出頻道 | 3 |
樣品臺配置
| 工作模式 | 底部XY定位器 |
| 運(yùn)動范圍（XY） | 18 mm × 18 mm 可擴(kuò)展 150 mm × 150 mm |
| 運(yùn)動速度 | 20 mm/s |
| 運(yùn)動精度 | 7 nm |
| 運(yùn)動重復(fù)性 | 80 nm （每運(yùn)動100 μm） |
AFM功能參數(shù)
| 樣品/探針接近 | 自動（無需激光對準(zhǔn)） |
| 探針調(diào)諧 | 自動 |
| 懸臂梁激發(fā)模式 | 雙材料熱機(jī)械激發(fā) |
| 檢測原理 | 壓阻讀數(shù) |
| 掃描模式 | 接觸式，非接觸式 |
| 探針移動范圍 | 20 mm × 20 mm × 10 mm |
| 精度 | < 10 nm |
| 重復(fù)性 | ± 25 nm |
| AFM成像范圍 | 10 μm × 10 μm × 5 μm 可擴(kuò)展至 200 μm × 200 μm |
| 本底噪聲 | 0.01 nm rms 垂直方向 |
| 橫向精度 | 99.7% 閉環(huán)掃描 |
| 掃描速度 | 0.01 線/秒 至 10 線/秒 |
| 實(shí)時(shí)圖像顯示 | 二維、三維形貌,相位,頻移,振幅 |
電子配置
| 分辨率 振幅/相位 | 16-bit |
| 反饋控制平臺 | 實(shí)時(shí)FPGA |
| 帶寬 | 8 MHz |
| 計(jì)算機(jī)接口 | USB, 以太網(wǎng)可選 |
| 傳感器調(diào)節(jié) | 0-4 V可編程電橋 |
軟件
| 實(shí)時(shí)修正 | 線, 面, 多項(xiàng)式 |
| 輪廓線測量 | YES |
| 粗糙度測量 | YES |
| 對比度/亮度/色彩調(diào)節(jié) | YES |
| 3D 圖像 | YES |
| 線平均 | YES |
| 圖像輸出 | bmp, png, jpg格式 |
| 原始數(shù)據(jù)輸出 | txt格式 |
| 圖像后續(xù)處理軟件 | Gwyddion, WSxM |
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
