蔡司鎢燈絲掃描電鏡ZEISS EVO MA 10/LS 10
價(jià) 格：詢價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-18 15:22
品 牌：型 號(hào)：EVO MA 10/LS 10
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2880
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詳細(xì)描述：
品牌：卡爾?蔡司 | 型號(hào)：EVO MA 10/LS 10
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制造商：德***卡爾蔡司公司 | 經(jīng)銷商：歐波同有限公司 |
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【品牌故事】
世界光學(xué)品牌，可見光及電子光學(xué)的領(lǐng)導(dǎo)企業(yè)----德***蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其電子光學(xué)前身為LEO（里奧）,更早叫Cambridge（劍橋），積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗(yàn)，ZEISS電子束技術(shù)在世界上創(chuàng)造了數(shù)個(gè)： 臺(tái)靜電式透射電鏡 (1949)
臺(tái)商業(yè)化掃描電鏡 (1965)
臺(tái)數(shù)字化掃描電鏡(1985)
臺(tái)場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(1990)
臺(tái)帶有成像濾波器的透射電鏡 (1992)
臺(tái)具有Koehler照明的 200kV 場(chǎng)發(fā)射透射電鏡(2003)
臺(tái)具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場(chǎng)發(fā)射透射電鏡(2003) CARL ZEISS以 其前瞻性至臻完美的設(shè)計(jì)融合歐洲至上制造工藝造就了該品牌在光電子領(lǐng)域無(wú)可撼動(dòng)的***地位。自成立至今，***直延續(xù)不斷創(chuàng)新的傳統(tǒng)，公司擁有電鏡制造*核心 的專有技術(shù)，隨著離子束技術(shù)和基于電子束的分析技術(shù)的加入、是全球?yàn)槟峁╂u燈絲掃描電鏡、場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業(yè)。其產(chǎn)品的高性能、高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到全世界廣大用戶的信賴與認(rèn)可。作為全球電鏡標(biāo)準(zhǔn)***的CARL ZEISS將***路領(lǐng)跑高端電鏡市場(chǎng)為您開創(chuàng)探求納米科技的嶄新紀(jì)元。 |
【總體描述】
EVO系列電鏡是高性能、功能強(qiáng)大的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡。MA 10用于材料領(lǐng)域,LS 10用于生命科學(xué)領(lǐng)域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)***的物鏡設(shè)計(jì)，提供高低真空成像功能，可對(duì)各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界的X射線分析技術(shù)。Beamsleeve的設(shè)計(jì)，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時(shí)還可以進(jìn)行準(zhǔn)確的能譜分析。樣品臺(tái)為五軸全自動(dòng)控制。標(biāo)準(zhǔn)的高效率無(wú)油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無(wú)污染(免維護(hù))成像分析。 |
【技術(shù)參數(shù)】
分辨率： 3.0nm@ 30KV(SE and W) 4.0nm@ 30KV(VP with BSD)
加速電壓：0.2―30KV
放大倍數(shù)：7―1000000x
探針電流：0.5PA-5μA
X-射線分析工作距離：8.5mm 35度接收角
低真空壓力范圍：10―400Pa (LS10:10-3000Pa)
工作室：310mm(φ)×220mm(h)
5軸優(yōu)中心自動(dòng)樣品臺(tái)：X=80mm Y=100mm Z=35mm T=-10°- 90°R=360°
試樣高度：100mm，試樣直徑：200mm
系統(tǒng)控制：基于Windows 7 的SmartSEM操作系統(tǒng)
存儲(chǔ)分辨率為32,000 x 24,000 pixels |
【產(chǎn)品應(yīng)用】
掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等 檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分 析和失效分析，材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測(cè)量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶 粒取向測(cè)量。 |
滬公網(wǎng)安備31011502016460號(hào)
