英國 DENTON 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺
價 格：詢價
產(chǎn) 地：更新時間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號：DENTON磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺
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DENTON 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺：
DENTON 真空使創(chuàng)新成為可能，并已超過50年。
全球成千上萬的薄膜沉積工具安裝,包括***個大型的、在全球范圍內(nèi)安裝的精密光學沉積系統(tǒng)——工程師和研究人員依靠DENTON 的薄膜創(chuàng)新驅動更高的吞吐量,更好的收益和低擁有成本(***席運營官),受益于綜合服務和支持,和***個專門的研發(fā)項目,提供可行的技術。 探索者提供了薄膜工業(yè)中*廣泛的配置和沉積模式:電子束蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。
DENTON 薄膜沉積平臺 •R & D •批量生產(chǎn) •在線生產(chǎn) •蒸發(fā) •濺射 •PE-CVD
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能濺射 電、磁、復合材料。柔性陰極，調(diào)整到?jīng)_擊角也可用。
強大的控制系統(tǒng) 可在半手動模式或全自動模式與***個推動自動化，以減少系統(tǒng)停機時間。
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靈活的室大小 可容納多達10英寸的襯底。
多個泵配置 多種擴散、低溫和渦輪泵配置可用于滿足您的預算和工藝。后方或底部安裝的泵提供方便的訪問服務，根據(jù)您的工作場所的需要。
典型的應用
PE-CVD •材料研究 •小批處理系統(tǒng) •3 d對象 •覆蓋各種材料 濺射 •材料研究 •產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量保證 •半導體失效分析 •CD掌握 •納米技術 •化合物半導體 •oled 蒸發(fā) •材料研究 •離子輔助沉積(IAD) •醫(yī)療設備 •電信 •CD掌握 •發(fā)射 •保護涂層 
選項：
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滬公網(wǎng)安備31011502016460號
