PICOSUN 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)
價(jià) 格:詢價(jià)
產(chǎn) 地:更新時(shí)間:2021-01-19 15:36
品 牌:型 號(hào):P-1000 Pro ALD
狀 態(tài):正常點(diǎn)擊量:1028
400-006-7520
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上海非利加實(shí)業(yè)有限公司
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配送方式:
上海自提或三方快遞
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PICOSUN P-1000 Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)
技術(shù)參數(shù):
襯底尺寸和類型
。156 mm x 156 mm硅片800~1000片/批次(雙面/背對(duì)背)
。高達(dá)400 mm x 600 mm玻璃基板30~50片/批次(雙面/背對(duì)背)
。大批量的3D產(chǎn)品(例如:鐘表部件,珠寶,硬幣,醫(yī)療植入部件,機(jī)械部件等)
。多孔,通孔,高深寬比(HAR)樣品
工藝溫度: 50 - 500 °C
基片傳送選件:
。氣動(dòng)升降(手動(dòng)裝載,帶叉車forklift cart)
。全自動(dòng)轉(zhuǎn)載,用工業(yè)機(jī)器人實(shí)現(xiàn)
前驅(qū)體:
。液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源
。前驅(qū)源余量傳感器,并提供清洗和裝源服務(wù)
。8根獨(dú)立源管線,*多加載12個(gè)前驅(qū)體源
重量: 2000 kg
尺寸:(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm
選件: PICOFLOW™ 擴(kuò)散增強(qiáng)器,N2發(fā)生器,尾氣處理器,定制設(shè)計(jì),與工廠軟件連接服務(wù)。
驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn): 標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝
其他可選裝置
其它可選裝置:
PICOFLOW™ 擴(kuò)散增強(qiáng)器
PICOFLOW™擴(kuò)散增強(qiáng)器用于提升深溝槽、高深寬比樣品的薄膜質(zhì)量。同樣適用于多孔、通孔、柔性樣品,粉末及其他復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)的樣品。該裝置兼容所有Picosun™ ALD設(shè)備。
POCA™ and PICOVIBE™ 顆粒沉積系統(tǒng)
PIcosun提供工業(yè)及研究型粉末沉積解決方案。POCA™ 300粉末沉積腔可以加工大批量粉末材料,并可以直接集成到PICOSUN™ P-300生產(chǎn)線反應(yīng)腔內(nèi)。對(duì)于小批量的粉末材料,可以采用POCA™ 200粉末沉積腔集成到PICOSUN™ R系列的設(shè)備上。此部件體積小,可以為高質(zhì)量的粉末材料研究提供多樣化、成本低的解決方案。
Picosun PICOVIBE™裝置可以使前驅(qū)源氣體在粉末中的均勻分布,進(jìn)***步提升粉末中每***個(gè)顆粒的薄膜均***性。
可連續(xù)沉積的Roll-to-roll 腔室
在印刷電子、OLED包裝、薄膜電池、智能紡織材料、有機(jī)傳感器、可循環(huán)或可生物降解包裝材料、柔性顯示器等研究領(lǐng)域,均要求連續(xù)的ALD鍍膜 工藝。Picosun卷對(duì)卷ALD腔室可容納300mm寬的襯底。并可直接集成到PICOSUN™P-300生產(chǎn)型反應(yīng)腔室上。我們還提供用于研究的小型卷對(duì)卷腔室,可容
納70mm寬的襯底。