高級(jí)型原子層沉積機(jī)
價(jià) 格:詢價(jià)
產(chǎn) 地:更新時(shí)間:2021-01-19 15:36
品 牌:型 號(hào):R-200 ALD
狀 態(tài):正常點(diǎn)擊量:2001
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芬蘭PICOSUN™ R-200高***型 ALD 技術(shù)參數(shù) 襯底尺寸和類型 : 。50-200 mm /單片 。156 mm x 156 mm太陽(yáng)能硅片 。3D復(fù)雜表面襯底 。粉末與顆粒 。Roll-to-roll , 襯底寬 70 mm 。多孔,通孔,高深寬比(HAR)樣品 工藝溫度: 50 - 500 °C , 可選更高溫度 基片傳送選件: 。氣動(dòng)升降(手動(dòng)裝載) 。預(yù)真空室安裝磁力操作機(jī)械手(Load lock ) 。半自動(dòng)裝載,用PICOPLATFORM™200集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn) 。25片晶圓盒對(duì)盒式全自動(dòng)裝載(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn) 前驅(qū)體 : 。液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源、等離子體(*多4路氣體) 。6根獨(dú)立源管線,*多加載12個(gè)前驅(qū)體源(加上Plasma管路,共7根獨(dú)立源管線) 重量 :350 + 200 kg 尺寸 :(W x H x D) 取決于選件 *小 :146 cm x 146 cm x 84 cm :189 cm x 206 cm x 111 cm 選件 :集群工具,PICOFLOW™ 擴(kuò)散增強(qiáng)器,集成橢偏儀,QCM,RGA,超高真空兼容,N2發(fā)生器,尾氣處理器,定制設(shè)計(jì),手套箱集成(用于惰性氣體下裝載) 驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn) :標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3工藝 | |