生產(chǎn)線型原子層沉積機(jī)
價(jià) 格:詢(xún)價(jià)
產(chǎn) 地:更新時(shí)間:2021-01-19 15:36
品 牌:型 號(hào):P-300S
狀 態(tài):正常點(diǎn)擊量:2078
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P-300S 生產(chǎn)線型原子層沉積機(jī) |
詳細(xì)介紹 |
PICOSUN P-300S Pro ALD 技術(shù)參數(shù) 襯底尺寸和類(lèi)型 :300mm晶圓/單片 工藝溫度: 50 - 500 °C 基片傳送選件:。 半自動(dòng)裝載,用單片Load lock與磁力操縱桿實(shí)現(xiàn) 。25片晶圓盒對(duì)盒式全自動(dòng)裝載(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn) 標(biāo)準(zhǔn) :SEMI S2認(rèn)證 前驅(qū)體:。液態(tài),固態(tài),氣態(tài),臭氧源 。等離子體(僅供200mm晶圓使用,*多4路氣體) 。前驅(qū)源余量傳感器,并提供清洗和裝源服務(wù) 。6條獨(dú)立源管線,*多加載8個(gè)前驅(qū)體源(*多12個(gè)前驅(qū)體源,加上plasma管路共7根獨(dú)立源管線) 重量:820 kg 尺寸:(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm 選件: 集群工具,PICOFLOW™擴(kuò)散增強(qiáng),N2發(fā)生器,尾氣處理,定制設(shè)計(jì),與工廠軟件連接服務(wù)。 驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn) :。標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為Al2O3工藝, 。其他工藝可具體協(xié)商:其他工藝、應(yīng)用具體驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)如: - 不均勻性 - 顆粒物含量 - 重金屬污染 - 電學(xué)性能 |
PICOSUN高產(chǎn)量的批量型工業(yè)用ALD系統(tǒng) 各種的批量產(chǎn)品裝載及自動(dòng)化選項(xiàng)ALD技術(shù)可以覆蓋各種形狀、各種表面的樣品,可以覆蓋*細(xì)小的地方,*難到達(dá)的地方。具有高度的保形性、均***性及***無(wú)針孔。這使得ALD可以應(yīng)用于各種行業(yè)里,實(shí)現(xiàn)各種表面的保護(hù)。ALD薄膜可以附著在各種表面上,例如金屬,玻璃,塑料,乃至纖維及粉末。作為氣相、低溫的沉積技術(shù),ALD薄膜可以生長(zhǎng)在非常敏感的表面上,例如聚合物薄膜。 ***,Picosun的ALD技術(shù)應(yīng)用在鐘表部件、珠寶、硬幣上進(jìn)行防著色,防腐蝕的裝飾涂層。在生物植入醫(yī)療部件上的生物兼容、生物活性涂層。致密、惰性、密封、彈性、透明的ALD薄膜技術(shù)挑戰(zhàn)傳統(tǒng)的膜生長(zhǎng)方式。在PCB防腐蝕保護(hù)、防摩損等領(lǐng)域,ALD層大大提升了部件的質(zhì)量、可靠性及壽命。 D 應(yīng)用 ALD U 產(chǎn)品 應(yīng)用 . | |