氧化硅薄膜窗
氧化硅薄膜窗
RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列產(chǎn)品。與氮化硅相比,氧化硅更易遭受化學(xué)侵蝕,且堅固性更差。但在X-射線顯微鏡中,由于沒有N原子存在而倍受青睞。
氧化硅與氮化硅薄膜窗比較
相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更適合用于含氮樣本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,則會與樣本造成混淆。
RISUN氧化硅薄膜窗特點(diǎn)
許多研究納米微粒,特別是含氮納米微粒的人員發(fā)現(xiàn)此種薄膜窗格在他們實(shí)驗(yàn)中不可缺少。氣凝膠和干凝膠的基本組成微粒尺寸極小,此項研究人員也同樣會發(fā)現(xiàn)SPI氧化硅薄膜窗格的價值。
· SEM應(yīng)用中,薄膜背景不呈現(xiàn)任何結(jié)構(gòu)和特點(diǎn)。
· X射線顯微鏡中,裝載多個分析樣的方法。
· 無氮
RISUN氧化硅薄膜窗規(guī)格
薄膜厚度 | 窗口尺寸 | 框架尺寸 | 型號 |
50nm | 1.5X1.5mm | 5.0X5.0mm | RISUN |
100nm | 1.5X1.5mm | 5.0X5.0mm |
200nm | 1.5X1.5mm | 5.0X5.0mm |
硅片厚度:200um、381um、525um;
定制系列
RISUN也可以根據(jù)用戶需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。
本產(chǎn)品為***次性產(chǎn)品,不建議用戶重復(fù)使用;本產(chǎn)品不能進(jìn)行超聲清洗,適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗。
應(yīng)用簡介
實(shí)際上,RISUN氧化硅薄膜應(yīng)用范圍非常廣,但所有應(yīng)用都有無氮要求(因樣本中有氮存在):
1. 惰性基片可用于高溫環(huán)境下,通過TEM、SEM或AFM(某些情況下)對反應(yīng)進(jìn)行動態(tài)觀察。
2. 作為耐用(如“強(qiáng)力”)基片,***先在TEM下,然后在SEM下對同***區(qū)域進(jìn)行“匹配”。
3. 作為耐用匹配基片,對AFM和TEM圖像進(jìn)行比較。
4. 聚焦離子束(FIB)樣本的裝載。
5.用作Ti、V、Mo等濾光器基質(zhì);用于X-射線光學(xué)設(shè)備中,如分光器
定制服務(wù):本公司接受特殊規(guī)格的產(chǎn)品預(yù)訂,價格從優(yōu)。