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氮化硅薄膜窗

氮化硅薄膜窗是X-射線顯微實驗必備用品！

氮化硅薄膜窗

    隨著各種軟X射線光源的出現(xiàn)，如同步輻射、激光等離子體等高亮度的X射線源的發(fā)展，軟X射線顯微成像技術(shù)在全世界范圍內(nèi)得到迅速發(fā)展。在此領(lǐng)域，需要應(yīng)用各種尺寸和厚度的氮化硅薄膜窗口。

氮化硅薄膜的性質(zhì)：

1.  硬度大，致密性好，表面光滑，機械強度大，穩(wěn)定性好；

2.  對軟X射線有很好的穿透性，對可見光是透明的。

    氮化硅膜可用作軟X射線接觸顯微術(shù)的襯底支持膜，成像后直接進行透射電鏡觀察；可作為同步輻射光束線中的污染阻擋層；可以成為制作各種光學(xué)波帶片的襯底薄膜；可以作為投影顯微術(shù)靶的支持膜；可以用作真空窗口，在同步輻射軟X射線顯微術(shù)中，隔開光源超高真空與顯微術(shù)光學(xué)元件高真空部分；在活樣品室設(shè)計中，隔開高真空的軟X射線部分與大氣壓，使樣品在大氣中曝光，這對于研究生物活細胞具有重大意義。 

RISUN氮化硅薄膜窗特點

    RISUN的X-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線(如真空紫外線)的透射率，主要用于同步輻射X射線透射顯微成像時承載樣品。 X-射線越軟(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特別在“離軸”狀態(tài)工作（即薄膜與光束成***定角度）時，也需要較薄的薄膜窗口，便于X射線更好地穿透。

1.  RISUN提供的氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成；

2.  RISUN提供的氮化硅窗選用低應(yīng)力氮化硅（0-250MP）薄膜，和ST氮化硅薄膜相比，低應(yīng)力產(chǎn)品更堅固耐用，成為用戶的；

3.  RISUN提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域，例如，X-射線（上海光源透射成像/能譜線站）、TEM、SEM、IR、UV等。 

透光度

使用透射（光學(xué)）顯微鏡時，完全可以透過薄膜窗進行觀察。但薄膜窗的厚度有***定限制，否則其透光度會明顯下降。對于X射線用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，對于軟X射線（例如碳邊吸收譜），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶。 

真空適用性

表面平整度

    RISUN氮化硅薄膜窗口具有穩(wěn)定的表面平整性（粗糙度小于1nm），對于X射線應(yīng)用沒有任何影響。 

溫度特性

    RISUN氮化硅薄膜窗口是耐高溫產(chǎn)品，能夠承受1000℃高溫，非常適合在其表面利用CVD方法生長各種納米材料。

化學(xué)特性

    RISUN氮化硅薄膜窗口是惰性襯底。

RISUN氮化硅薄膜窗規(guī)格

單窗口系列

硅片厚度：200um、381um、525um；

陣列系列

硅片厚度：200um、381um、525um；

定制系列

    RISUN也可以根據(jù)用戶需求提供不同膜厚、鍍層（如：Au）的定制服務(wù)，100片起訂。

本產(chǎn)品為***次性產(chǎn)品，不建議用戶重復(fù)使用；本產(chǎn)品不能進行超聲清洗，適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗。

應(yīng)用簡介

1. 同步輻射X射線（紫外或極紫外）透射成像或透射能譜應(yīng)用中是不可或缺的樣品承載體。

2. 耐高溫、惰性襯底，適應(yīng)各種聚合物、納米材料、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境，利于制備理想的用于X射線表征用的自組裝單層薄膜或薄膜（薄膜直接沉積在窗口上）。

3. 生物和濕細胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后，窗口具有很好的親水性。

4. 耐高溫、惰性襯底，也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。

5. 適合作為膠體、氣凝膠、有機材料和納米顆粒等的表征實驗承載體。

定制服務(wù)：本公司接受特殊規(guī)格的產(chǎn)品預(yù)訂，價格從優(yōu)。