PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80
價 格:詢價
產(chǎn) 地:美國更新時間:2020-10-29 14:11
品 牌:Neocera型 號:Pioneer240,180, 120,80
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脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80 主要特點:
*PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸發(fā),生產(chǎn)出與靶子同樣化學(xué)組成的膜。
*PLD應(yīng)用廣泛:很多材料在多樣的氣體環(huán)境和很寬的氣體壓力范圍內(nèi)都可以鍍膜。
*PLD節(jié)省成本:***束激光能夠供多個真空系統(tǒng)使用。
*PLD高效率:在10至15分鐘,可生長高質(zhì)量的樣品。
*PLD可升***:當需要大批量生產(chǎn)復(fù)合氧化物膜時,Neocera公司將證明PLD作為生產(chǎn)工具的價值。
PLD 是***種復(fù)雜材料沉積的有效方法
脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition)是***種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材,生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨特之處是能量源(脈沖激光)位于真空室的外面。這樣,在材料合成時,工作壓力的動態(tài)范圍很寬,達到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度,可以合成***系列具有獨特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。另外,PLD 是***種“ 數(shù)字” 技術(shù),在納米尺度上進行工藝控制(?/pulse)。
? Neocera 在PLD 設(shè)備與工藝開發(fā)方面具有不可超越的經(jīng)驗
? Pioneer 系列PLD 系統(tǒng)是全球研發(fā)領(lǐng)域***為廣泛使用的商業(yè)化系統(tǒng)
? Neocera 不僅為客戶提供***基本的PLD 系統(tǒng),也提供完整的PLD 實驗室交鑰匙方案
產(chǎn)品參數(shù)
脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80 技術(shù)參數(shù):
型號 | Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120 | Pioneer80 |
最大wafer直徑 | 8” | 6” | 2” | 1” |
最大靶材數(shù)量 | 6個1” 或4個2” | 6個1” 或4個2” | 6個1” 或3個2” | 4個1” |
壓力(Torr) | <10-8 | <10-8 | <10-8 | <10-8 |
真空室直徑 | 24” | 18” | 12” | 8” |
基片加熱器 | 8”,旋轉(zhuǎn) | 6”,旋轉(zhuǎn) | 3”, 旋轉(zhuǎn) | 2”,旋轉(zhuǎn) |
最高樣品溫度 | 850 ° C | 850 ° C | 950 ° C | 950 ° C |
Turbo泵抽速 (liters/sec) | 800 | 260 | 260 | 70 |
計算機控制 | 包括 | 包括 | 包括 | 包括 |
基片旋轉(zhuǎn) | 包括 | 包括 | - | - |
基片預(yù)真空室 | 包括 | 選件 | 選件 | - |
掃描激光束系統(tǒng) | 包括 | 選件 | - | - |
靶預(yù)真空室 | 包括 | - | - | - |
IBAD離子束輔助沉積 | 選件 | 選件 | 選件 | - |
CCS連續(xù)組成擴展 | 選件 | 選件 | - | - |
高壓RHEED | 選件 | - | - | - |
520 liters/sec泵 | a/n | 選件 | - | - |
產(chǎn)品介紹
脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓越經(jīng)驗的創(chuàng)新設(shè)計
Neocera 利用PLD 開展了深入廣泛的研究,建立了獲得***佳薄膜質(zhì)量的臨界參數(shù),特別適用于沉積復(fù)雜氧化物薄膜。
這些思考已經(jīng)應(yīng)用于Pioneer 系統(tǒng)的設(shè)計之中。
? 很多復(fù)雜氧化物薄膜在相對高的氧壓(>100 Torr)下冷卻可獲得更高的質(zhì)量。所有Pioneer 系統(tǒng)都具備此功能(壓力范圍可從額定初始壓強到大氣壓)。這也有益于納米粒子的生成。
? Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°,保持了激光密度在靶材上的***大均勻性,同時避免使用復(fù)雜而昂貴的光學(xué)部件。更大的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點,導(dǎo)致密度均勻性的損失。
? 為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵,消除油的回流對薄膜質(zhì)量的影響,所有Pioneer 系統(tǒng)的標準配置都采用無油泵系統(tǒng)。
? 我們的研究表明靶和基片的距離是獲得***佳薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)可以控制靶材和基片的距離,以達到***優(yōu)的沉積條件。