脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80
價(jià) 格：詢價(jià)
產(chǎn) 地：美國更新時(shí)間：2020-10-29 14:11
品 牌：Neocera型 號(hào)：Pioneer240,180, 120,80
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：1944
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脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80 主要特點(diǎn)：
PLD概念清晰易懂：激光束使靶子表面蒸發(fā)，生產(chǎn)出與靶子同樣化學(xué)組成的膜。
PLD應(yīng)用廣泛：很多材料在多樣的氣體環(huán)境和很寬的氣體壓力范圍內(nèi)都可以鍍膜。
PLD節(jié)省成本：***束激光能夠供多個(gè)真空系統(tǒng)使用。
PLD高效率：在10至15分鐘，可生長高質(zhì)量的樣品。
PLD可升***：當(dāng)需要大批量生產(chǎn)復(fù)合氧化物膜時(shí)，Neocera公司將證明PLD作為生產(chǎn)工具的價(jià)值。
PLD 是***種復(fù)雜材料沉積的有效方法
脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是***種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨(dú)特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時(shí)，工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬，達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成***系列具有獨(dú)特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。另外，PLD 是***種“ 數(shù)字” 技術(shù)，在納米尺度上進(jìn)行工藝控制（?/pulse）。
Neocera 在PLD 設(shè)備與工藝開發(fā)方面具有不可超越的經(jīng)驗(yàn)
Pioneer 系列PLD 系統(tǒng)是全球研發(fā)領(lǐng)域***為廣泛使用的商業(yè)化系統(tǒng)
Neocera 不僅為客戶提供***基本的PLD 系統(tǒng)，也提供完整的PLD 實(shí)驗(yàn)室交鑰匙方案
產(chǎn)品參數(shù)
脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80 技術(shù)參數(shù)：
型號(hào) | Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120 | Pioneer80 |
最大wafer直徑 | 8” | 6” | 2” | 1” |
最大靶材數(shù)量 | 6個(gè)1” 或4個(gè)2” | 6個(gè)1” 或4個(gè)2” | 6個(gè)1” 或3個(gè)2” | 4個(gè)1” |
壓力(Torr) | <10-8 | <10-8 | <10-8 | <10-8 |
真空室直徑 | 24” | 18” | 12” | 8” |
基片加熱器 | 8”，旋轉(zhuǎn) | 6”，旋轉(zhuǎn) | 3”， 旋轉(zhuǎn) | 2”，旋轉(zhuǎn) |
最高樣品溫度 | 850 ° C | 850 ° C | 950 ° C | 950 ° C |
Turbo泵抽速
（liters/sec） | 800 | 260 | 260 | 70 |
計(jì)算機(jī)控制 | 包括 | 包括 | 包括 | 包括 |
基片旋轉(zhuǎn) | 包括 | 包括 | - | - |
基片預(yù)真空室 | 包括 | 選件 | 選件 | - |
掃描激光束系統(tǒng) | 包括 | 選件 | - | - |
靶預(yù)真空室 | 包括 | - | - | - |
IBAD離子束輔助沉積 | 選件 | 選件 | 選件 | - |
CCS連續(xù)組成擴(kuò)展 | 選件 | 選件 | - | - |
高壓RHEED | 選件 | - | - | - |
520 liters/sec泵 | a/n | 選件 | - | - |
產(chǎn)品介紹
脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓越經(jīng)驗(yàn)的創(chuàng)新設(shè)計(jì)
Neocera 利用PLD 開展了深入廣泛的研究，建立了獲得***佳薄膜質(zhì)量的臨界參數(shù)，特別適用于沉積復(fù)雜氧化物薄膜。
這些思考已經(jīng)應(yīng)用于Pioneer 系統(tǒng)的設(shè)計(jì)之中。
很多復(fù)雜氧化物薄膜在相對高的氧壓（>100 Torr）下冷卻可獲得更高的質(zhì)量。所有Pioneer 系統(tǒng)都具備此功能（壓力范圍可從額定初始?jí)簭?qiáng)到大氣壓）。這也有益于納米粒子的生成。
Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的***大均勻性，同時(shí)避免使用復(fù)雜而昂貴的光學(xué)部件。更大的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點(diǎn)，導(dǎo)致密度均勻性的損失。
為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵，消除油的回流對薄膜質(zhì)量的影響，所有Pioneer 系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置都采用無油泵系統(tǒng)。
我們的研究表明靶和基片的距離是獲得***佳薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)可以控制靶材和基片的距離，以達(dá)到***優(yōu)的沉積條件。
滬公網(wǎng)安備31011502016460號(hào)
